第412章 光损耗破0.8 (第1/2页)
　　
　　光子芯片研发中心的测试台前，第四轮波导样片的数据正在一点一点往外跳。
　　
　　屏幕左侧叠着三条旧曲线，第一条0.95dB/Cm，第二条0.88dB/Cm，第三条0.82dB/Cm，三条线的终点都被沈明轩用红笔在打印稿上圈过。
　　
　　实验室里只有设备运行的低响。
　　
　　两个工程师站在他身后，一个手里拿着记录板，一个盯着实时数据窗口。
　　
　　沈明轩手里捏着一支红笔，笔帽被他扣在尾端，笔尖悬在打印稿上方。
　　
　　这一轮从上午开始跑，样片编号是G-4-17，工艺记录里多了一行备注，梯度刻蚀窗口二次修正。
　　
　　年轻工程师看了一眼前三轮数据，小声说：“沈老师，前三轮趋势是往下的，0.95，0.88，0.82。”
　　
　　沈明轩没有抬头。
　　
　　屏幕上的第四条曲线开始成型，前半段比第三条更低一点，中段有一小段抬头，又慢慢下去。
　　
　　沈明轩把鼠标移到曲线尾端，等最后一个数据点刷新出来。
　　
　　第四轮数据全部跑完。
　　
　　屏幕上四条曲线完整叠在一起，从上到下分得清楚，每一条都比前一条低。
　　
　　沈明轩拿起红笔，在打印稿第一条曲线旁画了一个箭头。
　　
　　1.1→0.95，刻蚀角度容差过大，高温测试时额外散射损耗明显。
　　
　　第二个箭头。
　　
　　0.95→0.88，梯度刻蚀后，侧壁粗糙度从12nm降到8nm。
　　
　　第三个箭头。
　　
　　0.88→0.82，刻蚀时间窗口继续收窄，端面损耗没有继续放大。
　　
　　第四个箭头画到一半，他的笔停住。
　　
　　曲线终点旁边，测试条件一行一行列着，1550nm，室温，TE模式，样片编号G-4-17，重复测试三次。
　　
　　最终读数，0.8dB/Cm。
　　
　　旁边的工程师低头确认原始文件名，又看向主屏：“沈老师，重复测试三次都在0.8上下，偏差没有超。”
　　
　　沈明轩把鼠标移到原始数据导出按钮上，保存，备份，签名。
　　
　　工程师伸手想把打印稿拿去复印，沈明轩先按住了。
　　
　　他把四个箭头重新看了一遍，红笔从1.1一路滑到0.8。
　　
　　实验室里仍没人说话。
　　
　　年轻工程师终于没忍住，低声说：“破了。”
　　
　　沈明轩退后半步，看着屏幕上的四条线。
　　
　　“0.8。”
　　
　　他把红笔盖好，放在测试台边。
　　
　　“方向对了，梯度刻蚀是通的。”
　　
　　这句话落下，记录板上的工程师才把刚才空着的结果栏补上。
　　
　　0.8dB/Cm。
　　
　　沈明轩打开电脑里的六周攻关计划。
　　
　　文件第一栏写着，第一阶段，突破0.8dB/Cm。
　　
　　他在这一栏右侧打了一个勾。
　　
　　勾打完后，屏幕下面还有第二栏，第三栏。
　　
　　0.65。
　　
　　0.5。
　　
　　那两行空着。
　　
　　沈明轩没有停留，关掉文件，把测试截图、原始数据包、工艺记录和重复测试报告打包成一个加密文件。
　　
　　他点开陈启的对话框。
　　
　　【0.8，突破了】
　　
　　消息发出去后，他把手机放在测试台边，没有继续盯着屏幕。
　　
　　陈启回得很快。
　　
　　【收到，继续】
　　
　　沈明轩看着那两个字，手指在手机边缘停了停。
　　
　　他没有回复。
　　
　　从0.8到0.5，继续加油。
　　
　　实验室门口有人探头进来，是负责设备维护的工程师。
　　
　　“沈老师，数据出来了吗？”
　　
　　年轻工程师回头，举了一下手里的记录板：“0.8。”
　　
　　设备工程师脚步停在门口，随后把手里的工具箱放下，走进来凑到屏幕前看。
　　
　　他把屏幕上的测试条件看了一遍。
　　
　　“这一版梯度刻蚀要不要马上上下一批？”
　　
　　沈明轩看向他。
　　
　　“先备份设备状态，刻蚀机不要动，工艺窗口锁住，下午不跑新样。”
　　
　　设备工程师愣了一下：“不继续？”
　　
　　沈明轩把打印稿夹进文件夹。
　　
　　
　　
　　（本章未完，请点击下一页继续阅读）